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“钼”成300层+NAND必选项 机构:沉积设备迎10亿美元增量市场_我的网站

A | Kenny 报道 4月22日,医生工会组织投票拒绝了新西兰卫生部提出的薪酬协议,超过2500名医生将在5月初举行罢工。 当地时间8月23日,半导体行业研究机构SemiAnalysis发文称,NAND闪存制造正从钨转向钼,因为当NAND来到300层以上,钼是必选项。
SemiAnalysis分析,3D NAND闪存堆叠层数突破300层后,钨字线在电阻、化学兼容性和深孔填充三方面均触及物理极限,钼成为强制替代材料。
新西兰住院医生协会(NZRDA)发布声明称,因为与卫生部的谈判陷入僵局,将于5月7日早晨7点至5月8日早晨8点之间“全面停工”。停工时间合计为25小时。
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NZRDA全国秘书Deborah Powell博士表示,卫生部提出了“难以接受的薪酬方案,包括在2025年对近600名注册工会成员(包括300名全科医生实习生)减薪或冻薪”。

B | NZRDA称卫生部提出的方案内容还包括“减薪最高达12%”、“对全科实习生减薪”、“降低涨薪上限”等等。

C | Powell博士说:“残酷而讽刺的是,卫生部还向我们提出了一份薪酬报价,它意味着某些住院医生的报酬会大幅上涨15%-20%,甚至达到25%。

D | 三星已于2024年量产,美光2025年跟进,SK海力士计划2026年底推出375层钼工艺产品。然而由于我们采取集合协议薪酬模式,该报价对我们成员的影响既不平等也不公平。”
她说工会成员决定团结一致,不接受任何削减住院医生收入的薪酬协议,尤其是在住院医生职位空缺多达500个、工会正在努力补缺的时候。其估计,钼在NAND总产能中的占比将从2025年的中个位数百分比,增长至2027年的约30%。
工会希望向卫生部传达一个简单信息:“每位住院医生都很重要”,“一些医生的工资上涨不能通过其他医生的减薪来达成”。
NZRDA抗议的另一个点是卫生部没有兑现关于重新排班的承诺。NZRDA说成员被安排连续长时间工作,有时甚至需要值班15个小时。 更进一步的,该机构提出,钼沉积设备将在明年迎来超10亿美元的新增市场。
该机构称,每一次从钨到钼的转换,都意味着需要新的沉积设备。
NZRDA表示,本周将由成员投票决定实否会有更多罢工行动。卫生部尚未对此发表意见。SemiAnalysis估计,仅2027年一年,NAND钼沉积设备的销售额就将超过10亿美元,并随着DRAM和逻辑芯片的跟进,到2030年增长至约20亿美元/年。

E | 受益格局方面,Lam Research(泛林集团)最先获益,TEL(东京电子)紧随其后;AMAT(应用材料)、ASMI(ASM国际)及Naura(北方华创)则更多受益于后续DRAM和逻辑芯片的转型浪潮。SemiAnalysis表示,完整的细分市场层面测算已纳入其前道设备(WFE)模型。 钼渗透率在高层数NAND中提升,本质是为延续NAND单位Bit成本下降曲线。 相关阅读: 工资跟不上通胀、人手短缺…近5000名资深医生和牙医将罢工 接受最新涨薪提议后 新西兰护士和教师的工资水平拼得过澳洲吗? “今天是值得庆祝的日子” 中学教师接受政府的14.5%涨薪提议 护士们接受最新涨薪方案 本周三不罢工了! 年薪2倍!免费住房!澳洲抢走新西兰护士后,又要抢他们…… 一图告诉你,澳洲工资水平比新西兰高多少 澳新收入差多少?新西兰护士“威胁”政府:不加薪就去澳洲 医护人员短缺危机:政府决定姗姗来迟,招聘专家呼吁提高薪资水平 注:本文为编译/原创,欢迎转发分享;但严禁复制等未经授权的非法使用。 300层NAND主要在结构上升级,聚焦超高深宽比通道孔刻蚀、多次Stack堆叠、晶圆翘曲控制以及Overlay精度控制。违反上述声明者,本网将追究其相关法律责任。 375层乃至400层以后,材料亟需升级,因钨字线会因为字线间距通道孔缩小面临RC延迟快速恶化、WF残氟导致介质损伤、漏电失效率提升以及填充缺陷放大的问题。而钼凭借更低电阻率、无氟前驱体及无需阻隔层等优势,有望改善RC性能与器件可靠性,为字线和存储孔缩放提供工艺余量,从而延续高层数NAND的成本下降曲线。使用授权请联系[email protected]。 中银证券表示,SK海力士已完成375层3D NAND生产验证并计划2026年底量产,拟采用钼材料替代钨制作字线,继三星在286层第九代3D NAND中率先导入钼工艺后,两大存储龙头相继切换,钼替代钨趋势确立。 chineseherald.co.nz All Rights Reserved 版权所有 (责编:鸮鹦鹉) 相关内容 为保安全 Woolworths为超市员工佩戴随身摄像头 奥克兰珠宝店九天被打劫两次,警方怀疑连环大盗 严惩重刑犯,新西兰政府恢复这项争议法律! 大动荡!新西兰政府猛下狠手,首都要撑不住了?! 大雨警报!周末北岛雨一直下,奥克兰要下17个小时…… 绵羊国的羊开始杀人了!奥克兰西区二死一伤…… 北岸中餐馆斧头砍人者姓名公布,律师请求放他回中国 62岁大爷向新西兰儿童兜售电子烟,庭审到一半逃回中国!。

F | 然而,钼的材料加工更为复杂,因为必须以气体形式输送,且前驱物在室温下为固体,需要加热器以确保流动稳定性。 基于此,300层以上3D NAND字线由钨切换为钼,并不是简单更换靶材或者更换气体材料,而是前驱体供给、ALD沉积腔体、刻蚀、清洗、尾气处理整套工艺链条的重构,原有钨CVD产线硬件无法直接复用,将直接推动晶圆厂资本开支上行,同时设备、特种材料、零部件均迎来变化。 爱建证券表示,钼导入本质是一次全流程工艺重构,设备链受益有望沿“沉积及前驱体输送→CMP及清洗→刻蚀→量检测”路径传导,工艺难点由沉积向后处理环节延伸。其中—— 沉积:成熟的WF钨工艺,Mo沉积需重新建立高深宽比结构下的填充与缺陷控制工艺窗口,同时有望减少阻隔层使用,带动沉积设备及配套工艺升级; 输送:Mo前驱体通常采用低挥发性固态源,与传统WF气态前驱体体系差异较大,需要新增气化装置、温控管路及精密供气系统,以保障前驱体稳定输送; CMP:Mo材料的氧化及表面化学特性不同于传统金属体系,需重新开发CMP研磨液和研磨垫,以满足平坦化、去除速率及缺陷控制要求; 清洗:Mo导入后残留物及氧化物体系发生变化,高深宽比结构下金属残留和污染控制难度提升,有望推动相关湿法清洗设备及配套化学品验证导入; 刻蚀环节则需重新建立适配钼材料的工艺窗口,且3DNAND层数持续提升下,刻蚀选择性、侧壁形貌控制及层间均匀性要求进一步提高,有望带动相关刻蚀设备升级需求; 量检测:Mo量产还需新增膜厚均匀性、填充缺陷、金属残留及电学可靠性等监控项目,有望带动薄膜量测、缺陷检测及电性测试等设备需求增长。 该机构称,NAND工艺迭代核心从单纯堆叠层数转向材料—设备—工艺协同创新,新材料导入将持续催生沉积、刻蚀、清洗等关键设备迭代升级,Mo字线导入将推动沉积、刻蚀、清洗等关键环节工艺升级,相关设备及零部件厂商有望受益。
(文章来源:科创板日报)。

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Published on:18:43:50
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